光氧催化廢氣處理器
本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線(185na)光束照射惡臭氣體,利用其高能量打斷惡臭氣體的臭氣功能團;同時,利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
各有機分子均是通過各種鍵連接在一起的,不同的分子鍵能量不一樣,如下圖:
鍵 |
C-C |
C=C |
C≡C |
C-O |
C=O |
C-H |
O-H |
O=O |
鍵能kJ/mol |
345.6 |
607 |
829 |
352 |
724 |
414 |
463 |
491 |
而真空紫外燈(VUV)可以發射185nm和254nm波長的紫外光。其紫外光的光量子能量分別為647kJ/mol和328kJ/mol,遠遠高于上表中的單鍵分子鍵能量,高于雙鍵分子的鍵能量。這種光量子同時也能直接光解空氣中的水和氧氣,生成羥基自由基、臭氧等高級氧化劑氧化去除VOCs。
對于苯及苯系物,紫外線發出的光子不能打破苯環大Π鍵,而苯環的單鍵能量是介于碳碳單鍵和碳碳雙鍵之間,當紫外線中的光子不斷地撞擊苯環單鍵,苯環中一個鍵被打破后成為鏈狀有機物,鏈狀有機物就可以被紫外線處理。
另外,在系統末端,利用特種紫外光波(254nm)照射特制的鎳基復合光照催化涂層材料,能迅速將廢氣化學分子裂解、斷鏈、氧化,改變物質結構,進一步將大分子鏈污染物質裂解、氧化成為低分子無害物質。
此產品適用于濃度較低(<150PPM)、氣體成分簡單的場合。
光氧廢氣凈化裝置參數表(根據具體項目案例另行提供)
使用條件: | 無油無塵 |
PH值: | 6.5~8.5 |
濕度: | 小于60% |
溫度: | 0~60度 |
產品性能優勢:
1、高效除惡臭:能去除低濃度揮發性有機物(VOC)、以及硫化氫、氨氣、硫醇類等惡臭污染物。
2、無需添加其他物質:只需要設置相應的排風管道和排風動力,使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化,無需添加其他物質參與化學反應。
3、適應性強:可適應不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理,可24小時連續工作,運行穩定可靠。
4、運行成本低:本設備無機械動作,無噪音,無需專人管理,只需作定期檢查和清潔,本設備能耗低。
5、設備工作環境溫度:在攝氏0°C-40°C之間,濕度60%以下均可正常工作。
6、設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件
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手機:15001380872
電話:010-67964805
郵箱:baijidiwater@
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保定工廠:保定市蓮池區焦莊鄉畢莊村南工業園103號

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